応用理学部会から講演会のご案内
応用理学部会から講演会のご案内がきております。
電気電子部会からも参加可能ということですので、興味のある方はご参加ください。
【応用理学部会６月例会】
◆日 時 平成18年6月20日（火）
17：30より18：30講演、質疑応答終了19：00頃
◆場 所 葺手第二ビル
◆講演内容 演題：「薄幕技術の特徴とその応用例」
講師：高尾 敏弘 先生
◆参 加 費 2,000円（弁当付）
◆講演要旨
わかり易い真空と薄膜技術の関わりと産業への応用について解説します。
真空を利用した成膜技術の比較を行い、その特徴と産業への応用例を解説します。とくにここ20〜30年の成膜技術の進歩は産業上の発展に大きく寄与しています。電子部品、精密機器、LCD等のFPD、型工具等の応用例等を近年の
薄膜技術の発展にそって、光学レンズの応用から有機EL、デジタル部品用光学薄膜部品の応用までわかり易く解説します。
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◆略 歴
昭和41年 東京理科大学 理学部 応用物理学科卒業
卒業後、8社の技術部門で主に薄膜技術を主体とした種々の開発、生産に関わった。湿度センサ、金属皮膜抵抗器等の開発、製造、販売営業を経験後。
昭和48年より東洋大学の指導により、イオンプレーティング技術の基礎開発、
TiN,TaN,SiC,C等の開発を行なう。その後、液晶用低抵抗ITOの開発,ITOプラズマエッチング技術、有機EL用のパターニング技術開発等に従事。
昨年より技術士業務を始動、現在海外に薄膜技術の指導を行なっている。
昭和58年 技術士 応用理学部門 登録。
応用物理学会、日本シュミレーション学会、理窓技術士会各会員。
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◆申込方法
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